Theoretical study of oxygen chemisorption 0n (111) and (100) silicon surface

Russo, N; Toscano, Marirosa; Barone, V; Lelj, F.

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Theoretical study of oxygen chemisorption 0n (111) and (100) silicon surface / Russo, N; Toscano, Marirosa; Barone, V; Lelj, F.. - In: PHYSICS LETTERS A. - ISSN 0375-9601. - 113(1985), pp. 321-324.

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Titolo:	Theoretical study of oxygen chemisorption 0n (111) and (100) silicon surface
Autori:	RUSSO, Nino TOSCANO, Marirosa BARONE V LELJ F. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	1985
Rivista:	PHYSICS LETTERS A
Citazione:	Theoretical study of oxygen chemisorption 0n (111) and (100) silicon surface / Russo, N; Toscano, Marirosa; Barone, V; Lelj, F.. - In: PHYSICS LETTERS A. - ISSN 0375-9601. - 113(1985), pp. 321-324.
Handle:	http://hdl.handle.net/20.500.11770/131796
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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http://hdl.handle.net/20.500.11770/131796

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