Adsorption of H2O and H2S on the (100) surface of silicon. A theoretical study / Russo, Nino; Toscano, Marirosa; Barone, V; Lelj, F.. - In: JOURNAL DE CHIMIE PHYSIQUE ET DE PHYSICO-CHIMIE BIOLOGIQUE. - ISSN 0021-7689. - 84:6(1987), pp. 799-803.
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Titolo: | Adsorption of H2O and H2S on the (100) surface of silicon. A theoretical study |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1987 |
Rivista: | |
Citazione: | Adsorption of H2O and H2S on the (100) surface of silicon. A theoretical study / Russo, Nino; Toscano, Marirosa; Barone, V; Lelj, F.. - In: JOURNAL DE CHIMIE PHYSIQUE ET DE PHYSICO-CHIMIE BIOLOGIQUE. - ISSN 0021-7689. - 84:6(1987), pp. 799-803. |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11770/134304 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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