Attenzione: i dati modificati non sono ancora stati salvati. Per confermare inserimenti o cancellazioni di voci è necessario confermare con il tasto SALVA/INSERISCI in fondo alla pagina
IRIS
The low-frequency noise behavior of locally strained pMOSFETs with a 7HfO(2)/TiN gate stack is reported. Different ways of compressive-strain engineering have been compared: a Si3N4 cap layer, SiGe source/drain (S/D) regions, or the combination of both. It is shown that the use of a cap layer does not degrade the 1/f noise magnitude, while an increase of this parameter is found for SiGe S/D devices. This increase is ascribed to the creation of additional traps in the high-k oxide by the SiGe S/D processing. The effect appears to be independent of the germanium content in the range studied (15%-25%). Another conclusion is that no direct correlation has been observed here between the applied stress and the noise magnitude.
Low-frequency (1/f) noise behavior of locally stressed HfO2/TiN gate-stack pMOSFETs
Giusi G;Simoen E;Eneman G;Verheyen P;CRUPI, Felice;De Meyer K;Claeys C;Ciofi C.
2006
Abstract
The low-frequency noise behavior of locally strained pMOSFETs with a 7HfO(2)/TiN gate stack is reported. Different ways of compressive-strain engineering have been compared: a Si3N4 cap layer, SiGe source/drain (S/D) regions, or the combination of both. It is shown that the use of a cap layer does not degrade the 1/f noise magnitude, while an increase of this parameter is found for SiGe S/D devices. This increase is ascribed to the creation of additional traps in the high-k oxide by the SiGe S/D processing. The effect appears to be independent of the germanium content in the range studied (15%-25%). Another conclusion is that no direct correlation has been observed here between the applied stress and the noise magnitude.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/20.500.11770/133293
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo
Citazioni
ND
30
24
social impact
simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2021-2023 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.